摘要：光刻机是一种高精密芯片制造设备，如果想要自主生产芯片，光刻机是必要的。那么光刻机是谁发明的？光刻机是法国人Nicephore niepce尼埃普斯发明的，现已成为半导体生产制造的主要生产设备。光刻机制造需要哪些技术？下面来了解下。一、光刻机是谁发明的。1822年法国人Nicephore niepce（尼埃普斯）发明了光刻机，起初是Nicephore niepce发现了一种能够刻在油纸上的印痕，当其出现在了玻璃片上后，经过一段时间的暴晒，透光的部分就会变得很硬，但是在不透光的部分可以用松香和植物油将其洗掉。