首先，光刻机对环境条件的要求极为苛刻。它需要在温度、湿度、以及空气洁净度都受到严格控制的环境中运行。例如，光刻机工作过程中会产生高压电场和静电，因此必须进行接地保护以防止电荷积聚；同时，为了避免灰尘、微粒等干扰光刻光线的传递，光刻机周围需要进行空气净化，保证最终产品的良品率。此外，光刻机对光学系统的保护也至关重要，防止灰尘等粒子进入影响成像质量和设备寿命。如果场所不具备这些条件，光刻机的性能将大打折扣，甚至可能导致设备故障。