构成专利侵权需满足两个基本条件。形式要求及实质需求。首先，关于形式要求。（1）被实施行为须涉及有效的中国专利。（2）该行为需未经所有权人允许或授权。（3）该行为须以生产经营为目的。行为人的主观意图并非形式要求的考量因素。其次，关于实质需求。（1）若行为人所涉技术特征与专利完全吻合，则构成侵权。（2）若行为人所涉技术特征超出专利范围，亦构成侵权。（3）若行为人所涉技术特征与专利既有相同又有不同，但相异部分与专利等效，仍属侵权。反之，则非侵权。此处所谓“等效”，意指在相关技术领域内的普通技术人员可通过推理判断出两种技术特征互换后效果无异。【法律依据】；