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再生障碍性贫血形成因素是什么

来源:动视网 责编:小OO 时间:2023-08-22 08:30:53
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再生障碍性贫血形成因素是什么

一、药物及化学物质;常见引发此病的药物有氯霉素,磺胺类药,四环素,抗癌药,苯,驱虫药,杀虫药,农药,无机砷,三硝基甲苯,保泰松等。苯是工业用化学物品中用途最广,也是最重要的骨髓抑制毒物。它引起再障似与剂量无关,可能是一种特异性反应,具有易挥发性,非常容易被人体所吸入。二、电离辐射;各种电离辐射也是再生障碍性贫血引起的原因,如X线、放射性同位素等,它们除了损伤造血干细胞外还可损伤造血的微环境,影响干细胞的增殖和分化。不同种细胞对电离辐射敏感性不同,损伤的程度与接触核辐射剂量有关。三、感染引起再障;
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导读一、药物及化学物质;常见引发此病的药物有氯霉素,磺胺类药,四环素,抗癌药,苯,驱虫药,杀虫药,农药,无机砷,三硝基甲苯,保泰松等。苯是工业用化学物品中用途最广,也是最重要的骨髓抑制毒物。它引起再障似与剂量无关,可能是一种特异性反应,具有易挥发性,非常容易被人体所吸入。二、电离辐射;各种电离辐射也是再生障碍性贫血引起的原因,如X线、放射性同位素等,它们除了损伤造血干细胞外还可损伤造血的微环境,影响干细胞的增殖和分化。不同种细胞对电离辐射敏感性不同,损伤的程度与接触核辐射剂量有关。三、感染引起再障;


一、药物及化学物质

常见引发此病的药物有氯霉素,磺胺类药,四环素,抗癌药,苯,驱虫药,杀虫药,农药,无机砷,三硝基甲苯,保泰松等。苯是工业用化学物品中用途最广,也是最重要的骨髓抑制毒物。它引起再障似与剂量无关,可能是一种特异性反应,具有易挥发性,非常容易被人体所吸入。

二、电离辐射

各种电离辐射也是再生障碍性贫血引起的原因,如X线、放射性同位素等,它们除了损伤造血干细胞外还可损伤造血的微环境,影响干细胞的增殖和分化。不同种细胞对电离辐射敏感性不同,损伤的程度与接触核辐射剂量有关。

三、感染引起再障

再生障碍性贫血引起的原因中感染引起的病死率高。因为有关的病毒既能影响肝脏,又会对骨髓造成影响,有不少原发性再障病例中在起病前曾有病毒性呼吸道感染。此外,还有细菌感染,如分支杆菌感染等,可能会引起全血细胞减少及再障。

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再生障碍性贫血形成因素是什么

一、药物及化学物质;常见引发此病的药物有氯霉素,磺胺类药,四环素,抗癌药,苯,驱虫药,杀虫药,农药,无机砷,三硝基甲苯,保泰松等。苯是工业用化学物品中用途最广,也是最重要的骨髓抑制毒物。它引起再障似与剂量无关,可能是一种特异性反应,具有易挥发性,非常容易被人体所吸入。二、电离辐射;各种电离辐射也是再生障碍性贫血引起的原因,如X线、放射性同位素等,它们除了损伤造血干细胞外还可损伤造血的微环境,影响干细胞的增殖和分化。不同种细胞对电离辐射敏感性不同,损伤的程度与接触核辐射剂量有关。三、感染引起再障;
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