中国光刻机技术真实水平

随着国内相关技术的不断发展，中国芯片技术得到了重大提升。国内的光刻机技术也逐渐成熟，纯国产光刻机也开始逐渐具备大规模生产的条件，其市场价值和技术优势也已经日益显著。虽然光刻机技术仍然面临着一定的挑战，但是只要不断迭代升级和加强研发，其水平将会和国际品牌逐渐接轨。

拓展：

光刻机（lithography）又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。曝光机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此曝光机价格昂贵，通常在 3 千万至 5 亿美元。

位于我国上海的上海微电子装备(集团)股份有限公司（SMEE）已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售。正在进行其他各系列产品的研发制作工作。