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MOS场效应管的分类

来源:动视网 责编:小OO 时间:2024-11-12 06:03:15
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MOS场效应管的分类

2.以N沟道MOSFET为例,它是在P型硅衬底上形成两个高掺杂浓度的N+源扩散区和N+漏扩散区,分别连接源极S和漏极D。源极与衬底内部相连,保持等电位。在外部电场的作用下,从P型衬底向N型沟道移动。3.当漏极接正电源,源极接负电源且VGS=0时,沟道电流(即漏极电流)ID=0。随着VGS的增加,在源极和漏极之间形成带负电的少数载流子,形成导电沟道。当VGS超过开启电压VTN(通常约为+2V)时,N沟道MOSFET开始导电,漏极电流ID开始流动。4.国内N沟道MOSFET的典型产品包括3DO1、3DO2、3DO4(单栅管)和4DO1(双栅管)。
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导读2.以N沟道MOSFET为例,它是在P型硅衬底上形成两个高掺杂浓度的N+源扩散区和N+漏扩散区,分别连接源极S和漏极D。源极与衬底内部相连,保持等电位。在外部电场的作用下,从P型衬底向N型沟道移动。3.当漏极接正电源,源极接负电源且VGS=0时,沟道电流(即漏极电流)ID=0。随着VGS的增加,在源极和漏极之间形成带负电的少数载流子,形成导电沟道。当VGS超过开启电压VTN(通常约为+2V)时,N沟道MOSFET开始导电,漏极电流ID开始流动。4.国内N沟道MOSFET的典型产品包括3DO1、3DO2、3DO4(单栅管)和4DO1(双栅管)。


1. MOSFET根据导电方式的不同,可以分为增强型和耗尽型两种。增强型MOSFET在VGS=0时处于截止状态,而当施加正确的VGS时,多数载流子被吸引到栅极附近,形成导电沟道。耗尽型MOSFET在VGS=0时 already 存在沟道,而正确的VGS会增加沟道中的载流子,从而耗尽沟道中的载流子,导致管子截止。
2. 以N沟道MOSFET为例,它是在P型硅衬底上形成两个高掺杂浓度的N+源扩散区和N+漏扩散区,分别连接源极S和漏极D。源极与衬底内部相连,保持等电位。在外部电场的作用下,从P型衬底向N型沟道移动。
3. 当漏极接正电源,源极接负电源且VGS=0时,沟道电流(即漏极电流)ID=0。随着VGS的增加,在源极和漏极之间形成带负电的少数载流子,形成导电沟道。当VGS超过开启电压VTN(通常约为+2V)时,N沟道MOSFET开始导电,漏极电流ID开始流动。
4. 国内N沟道MOSFET的典型产品包括3DO1、3DO2、3DO4(单栅管)和4DO1(双栅管)。
5. MOSFET对电磁干扰和静电非常敏感,因为其输入电阻高且栅-源极间电容小。即便是少量的电荷也可能在极间电容上积累高电压,损坏器件。为此,出厂时器件的引脚会绞合或封装在金属箔中,以保持栅极和源极等电位,防止静电积累。在不使用时,所有引脚应短接。在测量时需特别小心,并采取防静电措施。

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MOS场效应管的分类

2.以N沟道MOSFET为例,它是在P型硅衬底上形成两个高掺杂浓度的N+源扩散区和N+漏扩散区,分别连接源极S和漏极D。源极与衬底内部相连,保持等电位。在外部电场的作用下,从P型衬底向N型沟道移动。3.当漏极接正电源,源极接负电源且VGS=0时,沟道电流(即漏极电流)ID=0。随着VGS的增加,在源极和漏极之间形成带负电的少数载流子,形成导电沟道。当VGS超过开启电压VTN(通常约为+2V)时,N沟道MOSFET开始导电,漏极电流ID开始流动。4.国内N沟道MOSFET的典型产品包括3DO1、3DO2、3DO4(单栅管)和4DO1(双栅管)。
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