光学曝光和电子束曝光的区别
来源：动视网
责编：小OO
时间：2024-11-23 13:37:45
光学曝光和电子束曝光的区别
1、原理：光学曝光是基于激光的光衍射现象，通过改变透镜上的反射膜或涂层来实现对掩模上图案的缩小与放大，从而实现微纳尺寸的加工，而电子束曝光则是一种用于数学领域的分析仪器，其原理是通过电子束的加速和扫描来传输和切割影像。2、适用范围：光学曝光主要用于加工尺寸在微纳级别的产品，而电子束曝光则适用于在电子束感光胶上制备出纳米级的结构。
导读1、原理：光学曝光是基于激光的光衍射现象，通过改变透镜上的反射膜或涂层来实现对掩模上图案的缩小与放大，从而实现微纳尺寸的加工，而电子束曝光则是一种用于数学领域的分析仪器，其原理是通过电子束的加速和扫描来传输和切割影像。2、适用范围：光学曝光主要用于加工尺寸在微纳级别的产品，而电子束曝光则适用于在电子束感光胶上制备出纳米级的结构。
原理、适用范围。
1、原理：光学曝光是基于激光的光衍射现象，通过改变透镜上的反射膜或涂层来实现对掩模上图案的缩小与放大，从而实现微纳尺寸的加工，而电子束曝光则是一种用于数学领域的分析仪器，其原理是通过电子束的加速和扫描来传输和切割影像。
2、适用范围：光学曝光主要用于加工尺寸在微纳级别的产品，而电子束曝光则适用于在电子束感光胶上制备出纳米级的结构。
光学曝光和电子束曝光的区别
1、原理：光学曝光是基于激光的光衍射现象，通过改变透镜上的反射膜或涂层来实现对掩模上图案的缩小与放大，从而实现微纳尺寸的加工，而电子束曝光则是一种用于数学领域的分析仪器，其原理是通过电子束的加速和扫描来传输和切割影像。2、适用范围：光学曝光主要用于加工尺寸在微纳级别的产品，而电子束曝光则适用于在电子束感光胶上制备出纳米级的结构。
