光刻机与光刻厂的区别
来源：动视网
责编：小OO
时间：2024-08-31 19:29:34
光刻机与光刻厂的区别
1、光刻机是制造芯片的核心装备，光刻厂是半导体制造厂。2、光刻机是通过光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。而光刻厂的主要工作是芯片制造、电路制作、晶圆切割。
导读1、光刻机是制造芯片的核心装备，光刻厂是半导体制造厂。2、光刻机是通过光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。而光刻厂的主要工作是芯片制造、电路制作、晶圆切割。
区别如下。
1、光刻机是制造芯片的核心装备，光刻厂是半导体制造厂。
2、光刻机是通过光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。而光刻厂的主要工作是芯片制造、电路制作、晶圆切割。
光刻机与光刻厂的区别
1、光刻机是制造芯片的核心装备，光刻厂是半导体制造厂。2、光刻机是通过光源能量、形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法显影，得到刻在硅片上的电路图。而光刻厂的主要工作是芯片制造、电路制作、晶圆切割。
