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气相二氧化硅和二氧化硅的区别

来源:动视网 责编:小OO 时间:2024-09-01 23:39:11
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气相二氧化硅和二氧化硅的区别

1、制备方法。气相二氧化硅是通过化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition,CVD)或热解气相沉积等方法在气体状态下制备的,具有高纯度、均匀性好、无孔隙等特点;二氧化硅通常以石英、玻璃等形式存在,可以通过多种方法制备,如溶胶-凝胶法、沉积法等。2、物理性质和纯度。气相二氧化硅是纳米级的,杂质含量低,纯度可以达到99%以上;二氧化硅一般是微米级,杂质含量较高,纯度一般在93%左右。3、应用领域。气相二氧化硅因其优越的稳定性、补强性、增稠性、触变性等特性,在塑料、电子、胶粘剂、医药等领域得到广泛应用;二氧化硅则广泛应用于建筑材料、化妆品、磨料等领域。
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导读1、制备方法。气相二氧化硅是通过化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition,CVD)或热解气相沉积等方法在气体状态下制备的,具有高纯度、均匀性好、无孔隙等特点;二氧化硅通常以石英、玻璃等形式存在,可以通过多种方法制备,如溶胶-凝胶法、沉积法等。2、物理性质和纯度。气相二氧化硅是纳米级的,杂质含量低,纯度可以达到99%以上;二氧化硅一般是微米级,杂质含量较高,纯度一般在93%左右。3、应用领域。气相二氧化硅因其优越的稳定性、补强性、增稠性、触变性等特性,在塑料、电子、胶粘剂、医药等领域得到广泛应用;二氧化硅则广泛应用于建筑材料、化妆品、磨料等领域。


气相二氧化硅和二氧化硅的主要区别在于它们的制备方法、物理性质、纯度、应用领域。具体如下:
1、制备方法。气相二氧化硅是通过化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition,CVD)或热解气相沉积等方法在气体状态下制备的,具有高纯度、均匀性好、无孔隙等特点;二氧化硅通常以石英、玻璃等形式存在,可以通过多种方法制备,如溶胶-凝胶法、沉积法等。
2、物理性质和纯度。气相二氧化硅是纳米级的,杂质含量低,纯度可以达到99%以上;二氧化硅一般是微米级,杂质含量较高,纯度一般在93%左右。
3、应用领域。气相二氧化硅因其优越的稳定性、补强性、增稠性、触变性等特性,在塑料、电子、胶粘剂、医药等领域得到广泛应用;二氧化硅则广泛应用于建筑材料、化妆品、磨料等领域。

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气相二氧化硅和二氧化硅的区别

1、制备方法。气相二氧化硅是通过化学气相沉积(ChemicalVaporDeposition,CVD)或热解气相沉积等方法在气体状态下制备的,具有高纯度、均匀性好、无孔隙等特点;二氧化硅通常以石英、玻璃等形式存在,可以通过多种方法制备,如溶胶-凝胶法、沉积法等。2、物理性质和纯度。气相二氧化硅是纳米级的,杂质含量低,纯度可以达到99%以上;二氧化硅一般是微米级,杂质含量较高,纯度一般在93%左右。3、应用领域。气相二氧化硅因其优越的稳定性、补强性、增稠性、触变性等特性,在塑料、电子、胶粘剂、医药等领域得到广泛应用;二氧化硅则广泛应用于建筑材料、化妆品、磨料等领域。
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