半导体炉管设备是什么样的?-知乎

半导体炉管设备是半导体制造过程中的重要工具，它在多个工艺步骤中发挥着核心作用，包括扩散、掺杂、氧化、沉积和退火等。这些设备主要分为两种基本结构：水平式和垂直式。
在水平式炉管设备中，硅片被放置在石英晶舟内，由碳化硅制成的承载架进行支撑，并在炉管的前后设置有调节挡板。炉管通过承载架的推动，使硅片在恒温区域内进行化学反应。完成反应后，硅片会缓慢地从炉管中抽出，以减少由于温度梯度引起的弯曲或破裂的风险。
而垂直式炉管设备则是将硅片置于石英塔架上，然后硅片缓缓上升至石英炉管内部以进行相应的半导体制程。反应结束后，硅片需要再次缓慢下降，这是为了防止由于速度过快而导致的硅片损坏。
此外，炉管设备根据工作原理的不同，可以分为常压化学气相沉积炉管（APCVD）和低压化学气相沉积炉管（LPCVD）。常压化学气相沉积炉管的基本组成部分包括控制系统、硅片装载/卸载系统、气体排放系统、炉体以及气体输送系统等。这些系统共同工作，以确保半导体制造过程的顺利进行。