尼康i11光刻机是多少纳米
来源：动视网
责编：小OO
时间：2024-10-16 23:51:04
尼康i11光刻机是多少纳米
14nm。光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
导读14nm。光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
14nm。光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
尼康i11光刻机是多少纳米
14nm。光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。
