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salicide block的作用

来源:动视网 责编:小OO 时间:2024-10-05 12:13:00
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salicide block的作用

SAB (SAlicide Block)一般我们为了降低MOS的互连电容,我们会使用silicide/SAlicide制程,但是这样器件如果工作在输出端,的器件负载电阻变低。外界 ESD电压将会全部加载在LDD和Gate结构之间很容易击穿损伤,所以在输出级的MOS的Silicide/Salicide我们通常会用SAB(SAlicide Block)光罩挡住RPO,不要形成silicide,增加一个photo layer成本增加,但是ESD电压可以从1kV提高到4kV。静电。通常都是人为产生的,如生产、组装、测试、存放、搬运等过程中都有可能使得静电累积在人体、仪器或设备中,甚至元器件本身也会累积静电,当人们在不知情的情况下使这些带电的物体接触就会形成放电路径。
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导读SAB (SAlicide Block)一般我们为了降低MOS的互连电容,我们会使用silicide/SAlicide制程,但是这样器件如果工作在输出端,的器件负载电阻变低。外界 ESD电压将会全部加载在LDD和Gate结构之间很容易击穿损伤,所以在输出级的MOS的Silicide/Salicide我们通常会用SAB(SAlicide Block)光罩挡住RPO,不要形成silicide,增加一个photo layer成本增加,但是ESD电压可以从1kV提高到4kV。静电。通常都是人为产生的,如生产、组装、测试、存放、搬运等过程中都有可能使得静电累积在人体、仪器或设备中,甚至元器件本身也会累积静电,当人们在不知情的情况下使这些带电的物体接触就会形成放电路径。


SAB (SAlicide Block)一般我们为了降低MOS的互连电容,我们会使用silicide/SAlicide制程,但是这样器件如果工作在输出端,我们的器件负载电阻变低。

外界 ESD电压将会全部加载在LDD和Gate结构之间很容易击穿损伤,所以在输出级的MOS的Silicide/Salicide我们通常会用SAB(SAlicide Block)光罩挡住RPO,不要形成silicide,增加一个photo layer成本增加,但是ESD电压可以从1kV提高到4kV。

静电:

通常都是人为产生的,如生产、组装、测试、存放、搬运等过程中都有可能使得静电累积在人体、仪器或设备中,甚至元器件本身也会累积静电,当人们在不知情的情况下使这些带电的物体接触就会形成放电路径。

瞬间使得电子元件或系统遭到静电放电的损坏(这就是为什么以前修电脑都必须要配戴静电环托在工作桌上,防止人体的静电损伤芯片),如同云层中储存的电荷瞬间击穿云层产生剧烈的闪电,会把大地劈开一样,而且通常都是在雨天来临之际,因为空气湿度大易形成导电通到。

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SAB (SAlicide Block)一般我们为了降低MOS的互连电容,我们会使用silicide/SAlicide制程,但是这样器件如果工作在输出端,的器件负载电阻变低。外界 ESD电压将会全部加载在LDD和Gate结构之间很容易击穿损伤,所以在输出级的MOS的Silicide/Salicide我们通常会用SAB(SAlicide Block)光罩挡住RPO,不要形成silicide,增加一个photo layer成本增加,但是ESD电压可以从1kV提高到4kV。静电。通常都是人为产生的,如生产、组装、测试、存放、搬运等过程中都有可能使得静电累积在人体、仪器或设备中,甚至元器件本身也会累积静电,当人们在不知情的情况下使这些带电的物体接触就会形成放电路径。
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