一种用于半导体芯片的镀金液、镀金方法及镀镍金方法
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时间:2025-09-29 23:19:47
一种用于半导体芯片的镀金液、镀金方法及镀镍金方法
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111349917A(43)申请公布日2020.06.30(21)申请号CN201811581213.2(22)申请日2018.12.24(71)申请人天津环鑫科技发展有限公司地址300384天津市滨海新区华苑产业区(环外)海泰东路12号A座二层(72)发明人高云雪;徐长坡;陈澄;梁效峰;李亚哲;王晓捧;杨玉聪;魏文博(74)专利代理机构天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)代理人栾志超(51)Int.CI权利要
导读(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111349917A(43)申请公布日2020.06.30(21)申请号CN201811581213.2(22)申请日2018.12.24(71)申请人天津环鑫科技发展有限公司地址300384天津市滨海新区华苑产业区(环外)海泰东路12号A座二层(72)发明人高云雪;徐长坡;陈澄;梁效峰;李亚哲;王晓捧;杨玉聪;魏文博(74)专利代理机构天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)代理人栾志超(51)Int.CI权利要
(19)中华人民共和国国家知识产权局
| (12)发明专利申请 | |
| (10)申请公布号 CN111349917A(43)申请公布日 2020.06.30 |
(21)申请号 CN201811581213.2
(22)申请日 2018.12.24
(71)申请人 天津环鑫科技发展有限公司
地址 300384 天津市滨海新区华苑产业区(环外)海泰东路12号A座二层
(72)发明人 高云雪;徐长坡;陈澄;梁效峰;李亚哲;王晓捧;杨玉聪;魏文博
(74)专利代理机构 天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 栾志超
(51)Int.CI
(54)发明名称
一种用于半导体芯片的镀金液、镀金方法及镀镍金方法
(57)摘要
| 本发明提供一种用于半导体芯片的镀金液、镀金方法及镀镍金方法,镀金液包括4‑10g/L的水溶性金盐、12‑20g/L的pH缓冲剂、4‑8g/L的络合剂、30‑45g/L的掩蔽剂和水,镀金方法包括使用上述镀金液对半导体芯片进行镀金,镀镍金的方法包括半导体芯片表面预处理;镀镍;使用上述半导体芯片的镀金方法进行镀金;烘干。该镀金液溶液稳定,镀金方法及镀镍金方法操作简单,镀金过程速率均匀,金层结合力强,芯片镀金层厚度均一。 | |
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态信息 | 法律状态 |
| 2020-06-30 | 公开 | 公开 |
| 2020-06-30 | 公开 | 公开 |
| 2020-07-24 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 |
权利要求说明书
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说明书
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一种用于半导体芯片的镀金液、镀金方法及镀镍金方法
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号CN111349917A(43)申请公布日2020.06.30(21)申请号CN201811581213.2(22)申请日2018.12.24(71)申请人天津环鑫科技发展有限公司地址300384天津市滨海新区华苑产业区(环外)海泰东路12号A座二层(72)发明人高云雪;徐长坡;陈澄;梁效峰;李亚哲;王晓捧;杨玉聪;魏文博(74)专利代理机构天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)代理人栾志超(51)Int.CI权利要