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单晶硅片技术参数

来源:动视网 责编:小OO 时间:2025-09-29 07:49:07
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单晶硅片技术参数

Specificationsfor125×125pseudsquareSisinglecrystalwafer125×125准方单晶硅片技术参数表Item(项目)Specification(规格)Unit(单位)Remarks(备注)Material(材料)Silicon(硅)CrystalGrowthMethod(晶体成长方法)CZ(直拉法)ConductivityType(传导率)Ptype(P型)Dopant(搀杂物)Boron(硼)CrystalOrientation(晶体取向)±3D
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导读Specificationsfor125×125pseudsquareSisinglecrystalwafer125×125准方单晶硅片技术参数表Item(项目)Specification(规格)Unit(单位)Remarks(备注)Material(材料)Silicon(硅)CrystalGrowthMethod(晶体成长方法)CZ(直拉法)ConductivityType(传导率)Ptype(P型)Dopant(搀杂物)Boron(硼)CrystalOrientation(晶体取向)±3D
Specifications for 125×125 pseudsquare Si single crystal wafer

125×125准方单晶硅片技术参数表

Item(项目)

Specification(规格)

Unit(单位)

Remarks(备注)

Material(材料)

Silicon(硅)

Crystal Growth Method

(晶体成长方法)

CZ(直拉法)

Conductivity Type(传导率)

P type(P型)

Dopant(搀杂物)

Boron(硼)

Crystal Orientation

(晶体取向)

<100>±3Degree(度)

Resistivity(电阻系数)

0.5~3Ω-cm
Life Time(少子寿命)

≥10

μS
Oxygen Contents(氧含量)

≤1x1018 at/cm3

Carbon Contents(含碳量)

≤5.0x1016 at/cm3

Diameter(直径)

150±1

mm附图直径B

Length(长度)

125x125±0.5mm附图边长A

Thickness(厚度)

240±30μm
四条方边宽度尺寸最大允许差值≤1.5

mm附图边长C

Angles(a,b,c,d)

(四条边直角度)

90°±0.3°

Degree(度)

Dislocation(位错密度)

≤3000

ea/ cm2

(个/ cm2)

TTV(总厚度变化)

≤50

μm
Bow(翘曲度)

≤70

μm 

损伤层深度(刀痕)≤15

µm
Quality of surface

(表面质量)

1、硅片表面无通孔和裂纹(拉丝)现象;

2、沿硅片径向长度小于1mm,宽度小于1mm,不超过硅片厚度1/3的崩边,在整片中不允许超过3个;

3、表面无沾污异常斑点,无氧化。

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单晶硅片技术参数

Specificationsfor125×125pseudsquareSisinglecrystalwafer125×125准方单晶硅片技术参数表Item(项目)Specification(规格)Unit(单位)Remarks(备注)Material(材料)Silicon(硅)CrystalGrowthMethod(晶体成长方法)CZ(直拉法)ConductivityType(传导率)Ptype(P型)Dopant(搀杂物)Boron(硼)CrystalOrientation(晶体取向)±3D
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